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1. Photomask design

고객이 원하는 부분에 대하여 저희 Ains社에 정확한 설명을 제공해 주시면 고객에게 적합한 GDSII format으로 Pattern generation work을

저희 Ains社에서 대행해 주는 business model입니다.

* Mask design 소요시간 :24 hr

2. OPC design

고객이 현재 사용중인 lithography 의 한계를 극복하는 방법으로서 소프웨어를 이용하여 mask design을 각각의 고객의 process조건에 맞게

Mask design을 model/rule base로 수정하여 Mask design을 제공하는 business model입니다.

(ex : 현재 0.35 capability 0.3 or 0.25 capability로 확장을 하고자 할 때)

* Process verification 소요 기간 : 1month

* Mask verification 소요 기간 : 1month